Hohe reine Molybdän-Produkt-Ion Implanting Parts In Semiconductor-Anwendung

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: JINXING
Zertifizierung: ISO 9001
Modellnummer: Moly Ion Implanting Parts
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 15 KILOGRAMM
Preis: Negotiable
Verpackung Informationen: Sperrholzkisten
Lieferzeit: 15-20 Tage
Zahlungsbedingungen: L/C, T/T, D/P, Western Union
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 2000 Kilogramm pro Monat

Detailinformationen

Produktname: Moly Ion Implanting Parts Grad: Mo1
Dichte: 10,2 G/cm3 Reinheit: >=99.95%
Dehnfestigkeit: >MPa 325 Verlängerung: <21>
Standard: ASTM B387-01 Anwendung: Halbleiterindustrie
Markieren:

Ion Implanting Molybdenum Products

,

Molybdän Ion Implanting Parts

,

Halbleiter Ion Implanting Parts

Produkt-Beschreibung

Hoch-reine Anwendung Moly Ion Implanting Parts In Semiconductor

Moly Ion Implanting Parts sind eine Ionenstrahlntechnologie, die die Atome eines Elements in Ionen ionisiert, sie an einer Spannung von zehn zu den Hunderten von KV beschleunigt, und sie in die Oberfläche des Werkstückmaterials gelegt in Vakuumzielkammer einspritzt, nachdem es hohe Geschwindigkeit erhalten hat.

 

Nach Ionenimplantation ändern die Systemtest-, chemischen und mechanischeneigenschaften der Oberfläche des Materials erheblich. Die ununterbrochene Verschleißfestigkeit der Metalloberfläche kann 2 erreichen | 3 Größenordnungen der Anfangseinpflanzungstiefe.

 

 

SPEZIFIKATION U. CHEMISCHE ZUSAMMENSETZUNGEN (NOMINALS)

Material Art Chemische Zusammensetzung (nach Gew.)
Reines Moly Mo1 >99.95%min. MO
Legierung Ti-Zr-MO TZM Zr 0,5% Ti-/0,08%/0,01 - 0,04% C
MO-HF-c MHC 1,2% HF/0,05 - 0,12% C
Moly-Rhenium Mehr 5,0% Re
Moly-Wolfram MoW20 20,0% W
Moly-Wolfram MoW50 50,0% W

 

 

 

 

 

 

Vorteile von Technologie Moly Ion Implanting Parts:


(1) ist es eine reine unverschmutzte Oberflächenbehandlungstechnologie;


(2) benötigt es nicht thermische Aktivierungs- und Temperaturumwelt, also ändert es nicht die Gesamtausmasse und das Oberflächenende des Werkstückes;


(3) ist Ionenimplantationsschicht eine neue Deckschicht, die durch eine Reihe körperliche und chemische Interaktionen zwischen Ionenstrahl und Substratoberfläche gebildet wird, und es gibt kein Schalenproblem zwischen ihm und Substrat;


(4) dort ist kein Bedarf an der maschinellen Bearbeitung und an der Wärmebehandlung nach Ionenimplantation.

 

Moly Ion Implanting Parts Picture:
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ANWENDUNGEN von Moly Ion Implanting Parts

In der Halbleitertechnik hat Ionenimplantation Hochpräzisionsdosiseinheitlichkeit und -wiederholbarkeit. Sie kann ideale lackierende Konzentration und Integration erreichen, die Integrations-, Geschwindigkeits-, Ertrag- und Nutzungsdauer des Stromkreises erheblich zu verbessern und verringert die Kosten- und Leistungsaufnahme. Dieses ist zu chemischem Bedampfen unterschiedlich.

 

Um ideale Parameter, wie Dicke und Dichte zu erhalten, muss chemisches Bedampfen die Ausrüstung justieren, die Parameter, wie Temperatur und Luftmenge einstellt, die ein komplexer Prozess ist.

 

Zusätzlich zur Halbleiterproduktionsindustrie mit der schnellen Entwicklung der industriellen Steuerautomatisierung, ist- Ionenimplantationstechnologie auch in der Verbesserung von Metallen, von Keramik, von Glas, von Zusammensetzungen, von Polymeren, von Mineralien und von Betriebssamen weitverbreitet.

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