Feingrößen-Wolframspritzenziel mit Hüfte/CIP/Schmiede-Prozess

Das Wolframspritzenziel ist- ein wichtiges Substrat, damit die Wolframoxidschicht seinen Funktionsübergang im Halbleiterbauelement verwirklicht. Wegen des hochschmelzenden Punktes des Wolframs, Wolframtargets werden hauptsächlich durch Pulvermetallurgie vorbereitet

Wegen seiner Temperaturbeständigkeit, hoher Elektronentransportwiderstand und hoher Elektronenemissionskoeffizient, refraktärer Metallwolfram und Wolframlegierungen sind in der Herstellung der integrierten Schaltung des Halbleitergroßen umfangs weitverbreitet gewesen-. Wolfram- und Wolframlegierungsziele von hohem Reinheitsgrad für Halbleiter. Die Einsatzbereiche, die Leistungsanforderungen und die Vorbereitungsmethoden der Materialien wurden im Detail analysiert, und der Entwicklungstrend wurde prospektiert. Wolfram- und Wolframlegierungsziele von hohem Reinheitsgrad werden hauptsächlich benutzt, um Gate-Elektroden, Verbindungsverdrahtungen und Diffusionssperren von Halbleiterintegrierten schaltungen herzustellen. Etc.,

es gibt extrem hohe Anforderungen an die Reinheit von Materialien, von Störstellengehalt, von Dichte, von Korngröße und von Korngefügeeinheitlichkeit. Wolfram- und Wolframlegierungsziele von hohem Reinheitsgrad verwenden hauptsächlich das heiße Drücken, das heiße isostatic Drücken, etc. mittels des Mittelfrequenzsinterns + der Druck, der verarbeitet, von hohem Reinheitsgrad, Wolframtargets können mit hoher Dichte vorbereitet werden, aber Korngröße- und Korngefügeeinheitlichkeitssteuerung, ist nicht so gut wie die Wolframtargets, die durch das heiße isostatic Drücken vorbereitet werden.

Gesintertes Wolframtarget für das Spritzen, kennzeichnete in dem, das es eine relative Dichte von 99% oder mehr aufweist, in einem durchschnittlichen Kristallkorndurchmesser von 100 m oder weniger, in einem Sauerstoffgehalt von 20 PPMs oder weniger und von Ablenkungskraft von MPa 500 oder mehr und von Methode für das Vorbereiten des Wolframtargets mit Stabilität zu niedrigen Kosten, die verbesserte Produktionszustände für ein Rohstoffwolframpulver und verbesserte Sinternzustände verwendet. Das gesinterte Wolframtarget hat eine hohe Stufe der Dichte und des hohen Maßes der Feinheit einer Kristallstruktur, die nie durch eine herkömmliche Drucksinternmethode erzielt worden sind und deutlich in der Ablenkungskraft verbessert werden, die die bedeutende Abnahme am Vorkommen von Partikeldefekten ergeben hat.

Material: Wolfram

Bedingung: Boden

Anwendung: Beschichtende Industrie PVD, Röntgenröhre und so weiter.