Chrom-Rohr-Cr-Spritzenziel-silbernes Grau-Auftritt mit Duktilität

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: JINXING
Zertifizierung: ISO 9001
Modellnummer: Chrom-Rohr-Spritzenziel
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 1 kg
Preis: 20~100USD/kg
Verpackung Informationen: SPERRHOLZ-FALL
Lieferzeit: 10~25 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 100000kgs/M

Detailinformationen

Material: Chrom, Chrome Prozess: CIP, HIP Drücken
Größe: Besonders angefertigt Anwendung: PVD-Beschichtung,
Dichte: 7.19g/cm3 Form: Runde, Platte, Rohr-Spritzenziel
Korngröße: Feingröße, gute Dichte Reinheit: 99,5%, 99,9%, 99,95%
Markieren:

Chrom-Rohr-Cr-Spritzenziel

,

Spritzenziel mit Duktilität

,

PVD

Produkt-Beschreibung

Chrom-Rohr-Spritzenziel

Chromrohrspritzenzielmaterial ist silbriges weißes glänzendes Metall, hat reines Chrom Duktilität, und das Chrom, das Verunreinigungen enthält, ist hart und spröde. Die Dichte ist 7.19g/cm3. Lösliches in der starken Alkalilauge. Chrom hat eine hohe Korrosionsbeständigkeit, und Oxidation ist in der Luft, sogar im Zustand der Rotglut langsam. Unlöslich im Wasser. Schutz durch das Überziehen auf Metall

 

  • Beschreibung

Chrom-Rohr-Spritzenziel, Chrom-Rohr-Spritzenziel sind in unterschiedlichen Größen verfügbar

 

 

1. Die Reinheit des Chromziels des hohen Reinheitsgrades ist 99,5%, 99,8%, 99,95%, 99,99%

2. Allgemeine Spezifikationen Chromziels des von hohem Reinheitsgrad: Chromrohrziel von hohem Reinheitsgrad, Chromringplatte von hohem Reinheitsgrad, Länge 20-400mm, Durchmesser 50-120mm, Rohrstärke 5-10mm. TiO2, TiB2, Ti3O5, etc. können das Plasma sein, das auf das Chromrohrziel gesprüht wird, besonders angefertigt entsprechend Ihren Anforderungen.

3. Produktionsverfahren des Chromziels des hohen Reinheitsgrades: heißes isostatic Drücken, Pulvermetallurgie.

4. Chrompartikel des hohen Reinheitsgrades: allgemeine Teilchengrößen sind: 1-3mm, 3-5mm, Masche 40, - 20-300 Masche, 40 × 60 × 80 × 200 × für Verdampfungsbeschichtung, mit hohem Reinheitsgrad und gutem Verdampfungseffekt.

5. Chromstreifen des hohen Reinheitsgrades: Ø 0,3, Ø 0,5, Ø 1,0, etc.

6. Relevante Parameter Chroms des von hohem Reinheitsgrad: Formel: Cr

7. Auftritt: silbernes Grau

8. Spezifikation: Korn, Pulver, Zielmaterial, Stange.

 

 

Grade: Chrome-Spritzenziel
  Reinheit: 99,5%, 99,9%, 99,95%
Chrom-Legierung
AlCr, CrAl, CrSi, TiCr usw.
Dichte:  7.19g/cm3
Form: Ringsum Form Rohr-Form und Platten-Form.

 

Durch das heißes (kaltes) isostatic Drücken, Metalleinschmelzen und Pulvermetallurgie spezialisiert sich unsere Firma, auf, verschiedene Magnetronspritzenziele zu produzieren: Chromziel, Aluminiumziel, kupfernes Ziel, silbernes Ziel, Zinkaluminiumziel, kupfernes Indiumgallium-Selenziel, kupfernes Indiumziel, kupfernes Indiumgalliumziel, Germaniumantimon-Tellurziel, Lanthanstrontiummangan-Oxidziel, Eisenwismutmangan-Oxidziel, Chromziel, Nickelchromziel, Zinkziel, Aluminiumziel, Magnesiumziel, Hafniumziel, Scandiumziel, Silikonziel, Silikonziel, Tellurziel, Niobiumziel, Tantalziel, Kobaltchromziel, Aluminiumiridiumziel, Eisenchromaluminiumiridiumziel, Borkarbidziel, Bornitridziel, Titannitridziel, monokristallines Silikonziel, polykristallines Silikonziel, Silikon Dioxidziel, Titandioxidziel, Aluminiumoxydziel, Strontiumtitanatsziel, Bariumtitanatsziel, Zirkoniumdioxidziel, Hafniumoxidziel, Kupferoxidziel, Manganoxidziel, Magnesiumoxidziel, Zinkoxidziel, Zinksulfidziel, Kadmiumsulfidziel, Bornitridziel, Silikonkarbidziel, Yttriumoxidziel, Zinkoxidziel, Strontiumtitanatsziel, silbernes Indiumantimontellur-Legierungsziel, Indium-Telluridziel, Rutheniumziel, Palladiumziel, Iridiumziel, Goldziel, Platinziel, silbernes Ziel, Osmiumziel, AZO-Ziel, ITO-Ziel, Kadmiumtelluridziel, Kadmiumsulfidziel, Zinktelluridziel, Indiumselenidziel, kupfernes Selenidziel, Lanthanstrontiummanganoxid und andere Metallziele, Legierungsziel, keramisches Ziel, monokristallines Silikonsubstrat, Siliziumoxidsubstrat, Tonerdesubstrat, etc. hauptsächlich entsprechend den spezifischen Anforderungen von Kunden, verarbeiten wir verschiedene Spezifikationen und Zielmaterialien von verschiedenen Bestandteilen. Unsere Produkte sind vom hochwertigeren, niedrigeren Preis und von der kurzen Lieferfrist. Wir behalten gute Geschäftsbeziehungen mit vielen inländischen beschichtenden Fabriken, Beschichtungsmaschinenherstellern, Institutionen der wissenschaftlichen Forschung und inländischen und fremden Universitäten bei. Zur Zeit versieht unsere Firma Kunden mit allgemeinem Wachstums- und Entwicklungsraum mit hochwertigen Produkten, systematischen Dienstleistungen und wissenschaftlicher Unternehmensführung.

 

Anwendung:


1. Metallchromreinheit 99% - 99,5%: verwendet für Legierungszusätze, schmelzen Cermet, Pulvermetallurgie, harte Legierung, Diamantwerkzeuge, Diamantprodukte, elektrische Legierung, entkernten Draht, Zusätze der Zusatzwerkstoff-, Aluminiumlegierung, thermische Sprühmaterialien, hohe Temperatur und hohe haltbare Materialien, optische Beschichtungsmaterialien, chemische Produkte, etc.


2. Reinheit von Metallchrom 99,5% - 99,9%: verwendet für körperliches Bedampfen, Legierung der hohen Temperatur, Rohstoffe des heißen Chromziels isostatic Drückens, Cermet, harten Legierungszusatz, Zusatzwerkstoffe, Diamantwerkzeuge, Laser-Umhüllung, das Sprühen, etc.


3. Die Reinheit des Metallchroms ist- mehr als 99,9%; sie wird für Luftfahrtmaterialien, Dampfturbinen, beschichtende Ziele, etc. verwendet.

 

Art Anwendung Hauptlegierung Antrag
Halbleiter Vorbereitung von Mittellagen für integrierte Schaltungen Titan W. Tungsten (WTI), Ti-, Ta-, Allegierung, Cu, etc., mit einer Reinheit von mehr als 4N oder 5N

 

 

 

Höchste technische Anforderungen, Ultrahochreinheitsmetall, Größe der hohen Präzision, hohe Integration

 

Bildschirmanzeige Spritzentechnologie stellt Einheitlichkeit der Filmproduktion sicher, verbessert Produktivität und verringert Kosten Niobiumziel, Silikonziel, Crziel, Molybdänziel, MoNb, Alziel, Aluminiumlegierungsziel, kupfernes Ziel, Kupferlegierungsziel

 

 

 

Hohe technische Anforderungen, Materialien von hohem Reinheitsgrad, großer materieller Bereich und hohes Maß Einheitlichkeit

 

Verzieren Sie Es wird für das Beschichten verwendet, auf der Oberfläche von Produkten, zum des Effektes der Verschleißfestigkeits- und Korrosionsbeständigkeit zu verschönern

 

 

 

 

Chromziel, Titanziel, Zirkonium (Zr), Nickel, Wolfram, Titanaluminium, CRSI, CrTi, cralzr, Edelstahlziel

 

hauptsächlich verwendet für Dekoration, Energieeinsparung, usw.
Werkzeugausstattung

 

 

 

Verstärken Sie die Oberfläche von Werkzeugen und Formen, verbessern die Nutzungsdauer und die Qualität von hergestellten Teilen

 

TiAl-Ziel, Cr-Alziel, Crziel, Tiziel, Zinn, Tic, Al203, usw. Hochleistungsanforderungen und lange Nutzungsdauer
Solarphoto-voltaisches Gespritzte Dünnfilmtechnologie für die Herstellung der Dünnschichtsolarzellen der vierten Generation Aluminiumoxydziel des Zinks, Zinkoxidziel, Zinkaluminiumziel, Molybdänziel, Ziel des Kadmiumsulfids (CDS), kupfernes Indiumgalliumselen, usw. Breite Anwendung
Elektronische Zusätze

 

 

 

 

Für Schichtwiderstand und Filmkapazitanz

 

NiCr-Ziel, NiCr-Ziel, Cr-Siziel, Ta-Ziel, NiCr-Alziel, usw. Kleine, gute Stabilität und kleiner Widerstandtemperaturkoeffizient werden für elektronische Geräte angefordert
Informationsspeicherung

 

 

 

 

Für die Herstellung des magnetischen Gedächtnisses

 

Das Cr, das basiert wurde, Co basierte, basierter Co F.E., Ni basierte Legierungen Hohe Speicherdichte, hohe Übertragungsgeschwindigkeit

Chrom-Rohr-Cr-Spritzenziel-silbernes Grau-Auftritt mit Duktilität 0

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