Titanlegierungs85:15 des silikon-Spritzenziels (TiSi)/80:20/75:25 at%
TiSi Spritzenziel hat eine breite Palette von Anwendungsaussichten auf der maschinellen Bearbeitung, Elektronik, Optik und anderen Gebieten. TiSi-Ziel wird durch das heiße isostatic Drücken, Einschmelzen und andere Technologien produziert
Silikonlegierung ist das beschichtende Material der harten Beschichtung des Nitrids. Silikon stellt ausgezeichneten Oxidationswiderstand sicher, und Titan stellt hohe Härte der Beschichtung sicher. Die Kombination der zwei hat Verschleißfestigkeit sogar extrem an der hohen Temperatur. Titansilikonstickstoffbeschichtung hat eine starke Verschleißfestigkeit, und es gibt kein Problem, zum des Kühlmittels in der Hochgeschwindigkeitsmaschinellen Bearbeitung zu benutzen.
Während des verbindlichen Prozesses des Titansilikonspritzenziels, sollte beachtet werden das Oberflächenaufdampfen. Die Oberfläche des Titansilikonmaterials ist verhältnismäßig dicht, und sie muss sandgestrahlt werden und andere Oberflächenbehandlung. Beim Binden, ist es notwendig, Schnittheizung und den Ofen anzunehmen, die abkühlt, um Knacken zu verhindern.
Einsatzbereich der Spritzenbeschichtung: Spritzenbeschichtung ist auf Verpackenbeschichtung, Dekorationsbeschichtung, Architekturglasbeschichtung, Automobilglasbeschichtung, niedriger Strahlungsglasbeschichtung, Flachbildschirmanzeige, optischer Nachrichtenübertragung/optischer Industrie, optischer Datenspeicherungsindustrie, optischer Datenspeicherungsindustrie, magnetischer Datenspeicherungsindustrie, optischer Beschichtung, dem Halbleitergebiet, Automatisierung, Solarenergie, ärztlicher Behandlung, Selbstschmierungsfilm, Kondensator Gerätbeschichtung, anderer Funktionsbeschichtung, etc. weitverbreitet (das Klicken, zum der ausführlichen Einleitung einzutragen)
Spritzenziel-Rückwandversorgung, Verpfändungsservice: die Mitte liefert eine Vielzahl der Spritzenzielrückwand, einschließlich sauerstofffreies Kupfer, Molybdän, Aluminium, Edelstahl und andere Materialien. Gleichzeitig erbringt sie die schweißende Dienstleistung zwischen dem Ziel und der hinteren Platte.
Titansilikon-Spritzenziel, Titansilikon-Legierungs-Spritzenziel sind in unterschiedlichen Größen verfügbar
Anderes compostion: 75:25 at% des 80:20 at% des 85:15 at%
Vakuumspritzenziele und optische beschichtende Materialien sind in den dekorativen Beschichtungen, in den Werkzeugbeschichtungen, in den optischen Beschichtungen und in überzogenen Glas- und Flachbildschirmanzeigeindustrien weitverbreitet. Das produzierte Spritzenziel hat angemessenen Zusammensetzungsentwurf, glatte und glatte Oberfläche und gute elektrische Leitfähigkeit. Der Arbeitsstrom ist während des Spritzens stabil, und die Bodenplatte des hochohmigen Ziels wird fest angewendet. , Gute Stabilität, gute Hitzebeständigkeit, Verschleißfestigkeits- und Oxidationswiderstand, kleiner Temperaturkoeffizient Widerstand und andere Eigenschaften.
Die Hauptprodukte sind:
Al Aluminium des hohen Reinheitsgrades, Cu Kupfer des hohen Reinheitsgrades, hoher Reinheitsgrad Titanti, Si Silikon des hohen Reinheitsgrades, Au Gold des hohen Reinheitsgrades, hoher Reinheitsgrad silbernes AG, Indium des hohen Reinheitsgrades herein, Magnesiummagnesium des hohen Reinheitsgrades, Zn Zink des hohen Reinheitsgrades, Platin Pint des hohen Reinheitsgrades, GE Germanium des hohen Reinheitsgrades, Ni Nickel des hohen Reinheitsgrades, Tantal TA des hohen Reinheitsgrades, Goldgermaniumlegierung Auge, Goldnickellegierung auni, Nickelchromlegierung NiCr, Titanaluminiumlegierung TiAl, kupfernes Indiumgalliumlegierung cuinga, kupferne Indiumgalliumselenlegierung CuInGaSe, Aluminiumlegierung ZnAl des Zinks, Aluminiumsilikonlegierung AlSi und andere Metallbeschichtungsmaterialien.
| Art |
Anwendung |
Hauptlegierung |
Antrag |
| Halbleiter |
Vorbereitung von Mittellagen für integrierte Schaltungen |
Titan W. Tungsten (WTI), Ti-, Ta-, Allegierung, Cu, etc., mit einer Reinheit von mehr als 4N oder 5N |
Höchste technische Anforderungen, Ultrahochreinheitsmetall, Größe der hohen Präzision, hohe Integration
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| Bildschirmanzeige |
Spritzentechnologie stellt Einheitlichkeit der Filmproduktion sicher, verbessert Produktivität und verringert Kosten |
Niobiumziel, Silikonziel, Crziel, Molybdänziel, MoNb, Alziel, Aluminiumlegierungsziel, kupfernes Ziel, Kupferlegierungsziel |
Hohe technische Anforderungen, Materialien von hohem Reinheitsgrad, großer materieller Bereich und hohes Maß Einheitlichkeit
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| Verzieren Sie |
Es wird für das Beschichten verwendet, auf der Oberfläche von Produkten, zum des Effektes der Verschleißfestigkeits- und Korrosionsbeständigkeit zu verschönern |
Chromziel, Titanziel, Zirkonium (Zr), Nickel, Wolfram, Titanaluminium, CRSI, CrTi, cralzr, Edelstahlziel
|
hauptsächlich verwendet für Dekoration, Energieeinsparung, usw. |
| Werkzeugausstattung |
Verstärken Sie die Oberfläche von Werkzeugen und Formen, verbessern die Nutzungsdauer und die Qualität von hergestellten Teilen
|
TiAl-Ziel, Cr-Alziel, Crziel, Tiziel, Zinn, Tic, Al203, usw. |
Hochleistungsanforderungen und lange Nutzungsdauer |
| Solarphoto-voltaisches |
Gespritzte Dünnfilmtechnologie für die Herstellung der Dünnschichtsolarzellen der vierten Generation |
Aluminiumoxydziel des Zinks, Zinkoxidziel, Zinkaluminiumziel, Molybdänziel, Ziel des Kadmiumsulfids (CDS), kupfernes Indiumgalliumselen, usw. |
Breite Anwendung |
| Elektronische Zusätze |
Für Schichtwiderstand und Filmkapazitanz
|
NiCr-Ziel, NiCr-Ziel, Cr-Siziel, Ta-Ziel, NiCr-Alziel, usw. |
Kleine, gute Stabilität und kleiner Widerstandtemperaturkoeffizient werden für elektronische Geräte angefordert |
| Informationsspeicherung |
Für die Herstellung des magnetischen Gedächtnisses
|
Das Cr, das basiert wurde, Co basierte, basierter Co F.E., Ni basierte Legierungen |
Hohe Speicherdichte, hohe Übertragungsgeschwindigkeit |
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