Titanspritzenziel des hohen Reinheitsgrad-99,5% für Pvd-Anstrichsystem

Titanspritzenziel 99,5%, 99,95% D100x40mm, D65x6.35mm

Reinheit ist der Hauptleistungsindex des Zielmaterials, weil die Reinheit des Zielmaterials einen großen Einfluss auf die Leistung des Filmes hat.

Hauptleistungsanforderungen des Zielmaterials:

Reinheit ist der Hauptleistungsindex des Zielmaterials, weil die Reinheit des Zielmaterials einen großen Einfluss auf die Leistung des Filmes hat. Jedoch in der praktischen Anwendung, sind die Reinheitsgebote des Ziels nicht die selben. Zum Beispiel mit der schnellen Entwicklung der Mikroelektronikindustrie, ist die Größe des Silizium-Chips von 6", 8" bis 12" entwickelt worden, während die verdrahtende Breite von 0.5um zu 0.25um, 0.18um oder sogar 0.13um verringert worden ist. Vorher können 99,995% der Zielreinheit die Prozessbedingungen von 0.35um IC erfüllen, während die Vorbereitung der Linie 0.18um 99,999% oder sogar 99,9999% der Zielreinheit erfordert.

Verunreinigungen im Zielkörper und im Sauerstoff- und Wasserdampf in den Poren sind die Hauptemittenten. Verschiedene Zielmaterialien haben verschiedene Anforderungen für unterschiedlichen Störstellengehalt. Zum Beispiel haben Ziele der Reinaluminium- und Aluminiumlegierung für Halbleiterindustrie verschiedene Anforderungen für Alkalimetallinhalt und Inhalt des radioaktiven Elements.

Um die Porosität im Zielkörper zu verringern und die Eigenschaften von gespritzten Filmen zu verbessern, wird das Ziel normalerweise angefordert um eine hohe Dichte zu haben. Die Dichte des Ziels beeinflußt nicht nur die Spritzenrate, aber beeinflußt auch die elektrischen und optischen Eigenschaften des Filmes. Die Zieldichte das höher ist, ist die Filmleistung das besser. Darüber hinaus kann die Erhöhung der Dichte und der Stärke des Ziels das Ziel der Wärmebelastung im Spritzenprozeß widerstehen besser lassen. Dichte ist auch der Schlüsselleistungsindex des Ziels.

Im Allgemeinen ist das Zielmaterial polykristalline Struktur, und die Korngröße kann von Mikrometer zu Millimeter sein. Für die gleiche Art des Ziels, ist die Spritzenrate des Ziels mit kleiner Korngröße schneller als die des Ziels mit großer Korngröße, während die Stärkeverteilung des Filmes, der durch das Ziel mit kleinem Korngrößeunterschied niedergelegt wird (einheitliche Verteilung) einheitlicher ist.