Ziel für die Sputterung von PVD-Titanlegierungen
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Produktdetails:
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| Herkunftsort: | China |
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| Markenname: | JINXING |
| Zertifizierung: | ISO 9001 |
| Modellnummer: | Chrom-Spritzenziel |
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Zahlung und Versand AGB:
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| Min Bestellmenge: | 1 kg |
| Preis: | 20～100USD/kg |
| Verpackung Informationen: | SPERRHOLZ-FALL |
| Lieferzeit: | 10~25 Arbeitstage |
| Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 100000kgs/M |
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Detailinformationen |
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| Anwendung: | PVD-Beschichtung, | Material: | Chrom, Chrome |
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| Prozess: | CIP, HIP Drücken | Größe: | Besonders angefertigt |
| Dichte: | 7.19g/cm3 | Form: | Runde, Platte, Rohr-Spritzenziel |
| Korngröße: | Feingröße, gute Dichte | Reinheit: | 99,5%, 99,9%, 99,95% |
| Hervorheben: | Chrom-Spritzenziele PVD beschichtende,CIP Spritzenziel-rundes Rohr,Feingrößen-Spritzenziel |
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Produkt-Beschreibung
Chromspritzenzielmaterial ist silbriges weißes glänzendes Metall, hat reines Chrom Duktilität, und das Chrom, das Verunreinigungen enthält, ist hart und spröde. Die Dichte ist 7.19g/cm3. Lösliches in der starken Alkalilauge. Chrom hat eine hohe Korrosionsbeständigkeit, und Oxidation ist in der Luft, sogar im Zustand der Rotglut langsam. Unlöslich im Wasser. Schutz durch das Überziehen auf Metall
Chrom-Spritzenziel, Chrom-Ziel sind in unterschiedlichen Größen verfügbar
Der traditionelle Sintervorgang des Chromspritzenziels des hohen Reinheitsgrades, das durch Pulvermetallurgie vorbereitet wird, wird analysiert und optimiert. Die Versuchsergebnisse zeigen, dass die Zieldichte effektiv garantiert werden kann, indem man das Spritzenziel mit „der drückenden + sinterndes“ oder „kaltes isostatic Drücken + Sintern“ und die Sinterntemperatur angemessen steuern Form verarbeitet.
| Grade: | Chrome-Spritzenziel |
| Reinheit: 99,5%, 99,9%, 99,95% | |
| Vertraute Größe | D100x40mm, D65x35mm |
| Dichte: | 7.19g/cm3 |
| Form: | Ringsum Form Rohr-Form und Platten-Form. |
Größen:
Plattenspritzenziele:
Stärke: 0,04 bis 1,40“ (1,0 bis 35mm).
Breite bis 20" (50 bis 500mm).
Länge: 3,9" zu 6,56 Fuß (100-2000mm)
andere Größen, wie verlangt.
Zylinderspritzenziele:
3,94 Durchmesser x 1,58“ (100 Durchmesser x 40mm)
2,56 Durchmesser x 1,58“ (65 Durchmesser x 40mm)
oder 63*32mm andere Größen, wie verlangt.
Rohrspritzenziele:
2,76 Od x 0,28 GEWICHT x 39,4" L (70 Od x 7 GEWICHT x 1000mm L)
3,46 Od x 0,39 GEWICHT x 48,4" L (88 Od x 10 GEWICHT x 1230mm L)
andere Größen, wie verlangt.
Basiert auf der thermodynamischen Analyse des Vakuumsintervorgangs des reinen Chromziels für das spritzende Magnetron, wurden die notwendigen Bedingungen für den Sintervorgang an der Sinternpraxis hergestellt und angewendet. Das Spritzenziel mit Sauerstoffgehalt weniger als 0,07% wurde erfolgreich erzielt.
| Art | Anwendung | Hauptlegierung | Antrag |
| Halbleiter | Vorbereitung von Mittellagen für integrierte Schaltungen | Titan W. Tungsten (WTI), Ti-, Ta-, Allegierung, Cu, etc., mit einer Reinheit von mehr als 4N oder 5N |
Höchste technische Anforderungen, Ultrahochreinheitsmetall, Größe der hohen Präzision, hohe Integration
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| Bildschirmanzeige | Spritzentechnologie stellt Einheitlichkeit der Filmproduktion sicher, verbessert Produktivität und verringert Kosten | Niobiumziel, Silikonziel, Crziel, Molybdänziel, MoNb, Alziel, Aluminiumlegierungsziel, kupfernes Ziel, Kupferlegierungsziel |
Hohe technische Anforderungen, Materialien von hohem Reinheitsgrad, großer materieller Bereich und hohes Maß Einheitlichkeit
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| Verzieren Sie | Es wird für das Beschichten verwendet, auf der Oberfläche von Produkten, zum des Effektes der Verschleißfestigkeits- und Korrosionsbeständigkeit zu verschönern |
Chromziel, Titanziel, Zirkonium (Zr), Nickel, Wolfram, Titanaluminium, CRSI, CrTi, cralzr, Edelstahlziel
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hauptsächlich verwendet für Dekoration, Energieeinsparung, usw. |
| Werkzeugausstattung |
Verstärken Sie die Oberfläche von Werkzeugen und Formen, verbessern die Nutzungsdauer und die Qualität von hergestellten Teilen
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TiAl-Ziel, Cr-Alziel, Crziel, Tiziel, Zinn, Tic, Al203, usw. | Hochleistungsanforderungen und lange Nutzungsdauer |
| Solarphoto-voltaisches | Gespritzte Dünnfilmtechnologie für die Herstellung der Dünnschichtsolarzellen der vierten Generation | Aluminiumoxydziel des Zinks, Zinkoxidziel, Zinkaluminiumziel, Molybdänziel, Ziel des Kadmiumsulfids (CDS), kupfernes Indiumgalliumselen, usw. | Breite Anwendung |
| Elektronische Zusätze |
Für Schichtwiderstand und Filmkapazitanz
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NiCr-Ziel, NiCr-Ziel, Cr-Siziel, Ta-Ziel, NiCr-Alziel, usw. | Kleine, gute Stabilität und kleiner Widerstandtemperaturkoeffizient werden für elektronische Geräte angefordert |
| Informationsspeicherung |
Für die Herstellung des magnetischen Gedächtnisses
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Das Cr, das basiert wurde, Co basierte, basierter Co F.E., Ni basierte Legierungen | Hohe Speicherdichte, hohe Übertragungsgeschwindigkeit |
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