Wolfram-W-Folienteppich
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Produktdetails:
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| Herkunftsort: | CHINA |
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| Markenname: | JX |
| Zertifizierung: | ISO |
| Modellnummer: | Kupferlegierungdes Wolframw80cu20 Heizplatte reinen Platten-Lieferanten des Wolfram99,95% |
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Zahlung und Versand AGB:
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| Min Bestellmenge: | 10kgs |
| Preis: | according to actual products |
| Verpackung Informationen: | Standardverpackung |
| Lieferzeit: | 25days |
| Zahlungsbedingungen: | T/T |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | Monat 300kgs |
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Detailinformationen |
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| Größe: | Als Antrag | Qualität: | ISO9001: 2008 |
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| Oberfläche: | polieren, polierend, schwarze Oberfläche | Lieferfrist: | 25days |
| Verpackung: | Standardexport | Name: | Kupferlegierungdes Wolframw80cu20 Heizplatte reinen Platten-Lieferanten des Wolfram99,95% |
| Hervorheben: | 99,95% Wolframdickes kupferblech,Dickes Kupferblech des Wolframw80cu20 |
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Produkt-Beschreibung
Reine 99,95% Wolframkupferlegierungs-Heizplatte der Wolframplatten-W80cu20
Wolframblatt-Platten-Spezifikation:
1) Reinheit: 99,95%
2) Dichte: >19.2g/cm3
3) Eigenschaft:
Schmelzpunkt: 3410 Grad Celsius
Siedepunkt: 5927 Grad Celsius
4) verfügbare Größe: Stärke (0.05-80mm) *W (20-800) *L<1000mm>
5) Oberflächen: Schwarze, Alkali-Wäsche und poliert
6) Prozessbedingung: heiße Rolle u. kaltgewalzt
7) Flachheit: ≤2%
8) Produktnorm: GB/T3875-83 oder ASTM B760-86
| Material | WT % Wolframinhalt |
WT % Kupferner Inhalt |
g/ Dichte an 20ºC |
W/M.K Wärmeleitfähigkeit an 25ºC |
(10-6/k) Ausdehnungskoeffizient an 20ºC |
| W90Cu10 | 901 | Balance | 17,0 | 180-190 | 6,5 |
| W85Cu15 | 851 | Balance | 16,4 | 190-200 | 7,0 |
| W80Cu20 | 801 | Balance | 15,6 | 200-210 | 8,3 |
| W75Cu25 | 751 | Balance | 14,9 | 220-230 | 9,0 |
| W50Cu50 | 501 | Balance | 12,2 | 310-340 | 12,5 |
Wolframplatten-Bild:
Wolframstreifen/-blatt/-platte auch benutzt, wenn Quelle des elektrischen Lichtes und elektrische Vakuumteil-, -boots-, -wärmeschutz- und -hitzekörper in der hohen Temperatur hergestellt werden
Ofen, medizinische Diagnose und Behandlungsausrüstung; als Mittel des Heizungselementand und des Hochs der hohen Temperatur
Temperaturstrukturteile; Verwendet, wenn Wolframspirale für Vakuumverdampfung produziert wird und Wolframspritzenziel gemacht wird.
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