
Ziel für die Sputterung von PVD-Titanlegierungen
Produktdetails:
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Herkunftsort: | China |
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Markenname: | JINXING |
Zertifizierung: | ISO 9001 |
Modellnummer: | Chrom-Stücke |
Zahlung und Versand AGB:
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Min Bestellmenge: | 1 kg |
Preis: | 20~150USD/kg |
Verpackung Informationen: | SPERRHOLZ-FALL |
Lieferzeit: | 10~25 Arbeitstage |
Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 100000kgs/M |
Detailinformationen |
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Material: | Chrom, Chrome | Prozess: | CIP, HIP Drücken |
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Anwendung: | Verdampfungs-Material, Verdampfungsbeschichtung | Dichte: | 7.19g/cm3 |
Form: | Blatt, Stücke, Zylinder, granuliert, Pulver | Korngröße: | Feingröße, gute Dichte |
Größe: | Besonders angefertigt | Reinheit: | 99,5%, 99,9%, 99,95% |
Hervorheben: | Chrom bedeckt Spritzenziele,7,19 Spritzenziele der Dichte-g/Cm3 |
Produkt-Beschreibung
Prinzip der Verdampfungsbeschichtung:
der körperliche Prozess der Verdampfungsbeschichtung vom materiellen Verdampfungstransport zur Absetzung ist, wie folgt:
1. Wandeln Sie alle Arten Energie in Wärmeenergie um, erhitzen Sie das überziehende Material, um zu verdunsten oder erhaben und die gewordenen Gaspartikel (Atome, Moleküle oder Atomgruppen) mit bestimmter Energie (0.1-0.3ev);
2. Die Oberfläche des überziehenden Materials lassend, werden die gasförmigen Partikel mit beträchtlicher Geschwindigkeit zur Oberfläche des Substrates in einem im Allgemeinen freien linearen Flug des Zusammenstoßes transportiert;
3. Die Filme des festen Aggregatzustandes werden durch die Kondensation von gasförmigen Partikeln auf der Oberfläche des Substrates gebildet;
4. Die Atome, die den Film bilden, werden neu geordnet oder verpfändet chemisch.
Es gibt viele Arten Verdampfungsbeschichtungsmaterialien. Zur Zeit gibt es Hunderte von ihnen werden verwendet hauptsächlich im Markt. Das Produktionsverfahren umfasst hauptsächlich: Kristall, der, pulverisierend, Tablettendrücken, Werfen, Formteil, etc. zerquetscht, schmelzendes zerquetscht, Drahtziehen, Drahtausschnitt, Granulation. Die Produktform umfasst hauptsächlich: Walzdraht, Pulver, unregelmäßiger Partikel, kleiner Zylinder, Bällchen, Kegel
Chrom-Stücke, Chromblätter sind in unterschiedlichen Größen verfügbar
Stärke, die Faktoren beeinflußt
1. Gitteranpassungsgrad des Substrates und des Ziels
2. Substratoberflächentemperatur
3. Verdampfungsenergie, Rate
4. Vakuumgrad
5. Beschichtende Zeit und Stärke.
Teileinheitlichkeit
Die Einheitlichkeit der Komponenten der Verdampfungsbeschichtung ist nicht einfach zu garantieren. Die spezifischen justierbaren Faktoren sind die selben wie oben. Jedoch wegen der Beschränkung des Prinzips, ist die Einheitlichkeit der Komponenten der Verdampfungsbeschichtung nicht für die nicht einzelne Teilbeschichtung gut.
Kristallographische Einheitlichkeit
1. Gitteranpassungsgrad
2. Substrattemperatur
3. Verdunstungsrate
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Grade: | Chrome-Spritzenziel |
Reinheit: 99,5%, 99,9%, 99,95% | |
Größe | 3x3mm, 6x6mm |
Dichte: | 7.19g/cm3 |
Form: | Blätter, granuliert |
Die Hauptprodukte sind:
wie folgt: (Partikel, Blöcke und Pulver können besonders angefertigt werden), Aluminiumpartikel 99,99% 3 * 3mm; 99,999% 3 * 3mm kupferne Partikel 99,99% 3 * 3mm; 99,999% 3 * 3mm Eisenpartikel 99,9% 2 * 3mm Titanpartikel 99,999% 6 * 6mm Vanadiumpartikel 99,9% 3 * 3mm Nickelpartikel 99,999% 6 * 6mm Chrompartikel 99,95% 3-5mm Kobaltpartikel 99,95% 2-8mm Manganpartikel 99,8% 1-10 Millimeter-Bariumpartikel 99,6% 2-6cm (als deoxidizer) Kalziumpartikel 99,5% 1-3mm (verwendet als deoxidizer) Wolframpartikel 99,95% 6 * 6mm Niobiumpartikel 99,95% 6 * 6mm Molybdänpartikel 99,95% 6 * 6mm Tantalpartikel 99,95% 6 * 6mm Zirkoniumpartikel 99,5% 1,6 * 5mm; 99,95% 2,4 * 5mm Kristallhafniumstangen 99,9% d21mm-Hafniumpartikel 99,9%.
Al Aluminium des hohen Reinheitsgrades, Cu Kupfer des hohen Reinheitsgrades, hoher Reinheitsgrad Titanti, Si Silikon des hohen Reinheitsgrades, Au Gold des hohen Reinheitsgrades, hoher Reinheitsgrad silbernes AG, Indium des hohen Reinheitsgrades herein, Magnesiummagnesium des hohen Reinheitsgrades, Zn Zink des hohen Reinheitsgrades, Platin Pint des hohen Reinheitsgrades, GE Germanium des hohen Reinheitsgrades, Ni Nickel des hohen Reinheitsgrades, Tantal TA des hohen Reinheitsgrades, Goldgermaniumlegierung Auge, Goldnickellegierung auni, Nickelchromlegierung NiCr, Titanaluminiumlegierung TiAl, kupfernes Indiumgalliumlegierung cuinga, kupferne Indiumgalliumselenlegierung CuInGaSe, Aluminiumlegierung ZnAl des Zinks, Aluminiumsilikonlegierung AlSi und andere Metallbeschichtungsmaterialien.
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