
Ziel für die Sputterung von PVD-Titanlegierungen
Produktdetails:
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Herkunftsort: | China |
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Markenname: | JINXING |
Zertifizierung: | ISO 9001 |
Modellnummer: | hoher Reinheitsgrad Titanspritzenziel |
Zahlung und Versand AGB:
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Min Bestellmenge: | 1 kg |
Preis: | 20~200USD/kg |
Verpackung Informationen: | SPERRHOLZ-FALL |
Lieferzeit: | 10~25 Arbeitstage |
Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 100000kgs/M |
Detailinformationen |
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Form: | Runde, Platte, Rohr | Prozess: | CIP, HIP Drücken |
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Größe: | Besonders angefertigt | Anwendung: | pvd Anstrichsystem |
Material: | hoher Reinheitsgrad Titanspritzenziel | Korngröße: | Feingröße, gute Dichte |
Reinheit:: | 99,95%, 99,99%, 99,999% | Dichte: | 4.52g/cm3 |
Hervorheben: | Feingrößen-Titan spritzen Ziel,Hoher Reinheitsgrad-Titanziel,4 |
Produkt-Beschreibung
Material des hohen Reinheitsgrades, Ultrahochreinheitsmaterial, Material des hohen Reinheitsgrades des Halbleiters
Materialwelt stellt Materialien von hohem Reinheitsgrad von 4N zu 7N zur Verfügung: während die Grundmaterialien der Halbleiterindustrie und der elektronischen Industrie, Materialien von hohem Reinheitsgrad auf den verschiedenen industriellen Gebieten, einschließlich Feldlumineszenzabdeckungen, thermoelectronics weitverbreitet sind, liefert die Elektronik, Informationen, Infrarot, Solarzellen, leistungsstarke Legierungen, etc., die matech zaubern, eine vollständige Auswahl von Ultrahochreinheitsmaterialien, um den Bedarf von inländischen und internationalen Kunden zu erfüllen. Wir stellen nicht nur Rohstoffe von hohem Reinheitsgrad zur Verfügung, aber können verschiedene Rohstoffe von hohem Reinheitsgrad für Kunden, wie Ultrahochreinheitsmetallmagnetronspritzenziel auch machen, Solarzellenmagnetronspritzenziel, Solarfilmverdampfungs-Beschichtungsmaterial, elektronischer Walzdraht von hohem Reinheitsgrad, Streifen, Pulver…
Magnetronspritzenzielmaterialformverfahren: das materielle Formverfahren wird entsprechend der Produktleistung und den verschiedenen Anforderungen von Kunden vorgewählt. Im allgemeinen wenn der Schmelzpunkt von Materialien niedrig ist, ist es notwendig, das Vakuum zu verwenden, das schmilzt, wirft, schmiedet und, das rollt, um Porosität zu beseitigen. Selbstverständlich ist effektive Wärmebehandlung notwendig, um das einheitliche Kornmaterial weiter zu entwickeln. Materialien mit hochschmelzendem Punkt (oder Materialien mit hoher Zerbrechlichkeit) werden durch das heiße Drücken oder das heiße isostatic Drücken und einiges werden gebildet durch das kalte isostatic Drücken und gesintert dann gebildet. Alle Arten Spritzenzielmaterialien, die von unserer Firma zur Verfügung gestellt werden, haben richtige Technologie, hohe Dichte, einheitliches Korn und lange Nutzungsdauer…
Hoher Reinheitsgrad Titan-Spritzenziel 99,99%, hoher Reinheitsgrad Titan-Spritzenziel 99,999%
seien Sie in unterschiedlichen Größen verfügbar
D100x40mm, D101.6x6.35mm usw.
Produkt-Name | Element | Purirty | Schmelzpunkt ℃ | Dichte (g/cc) | Verfügbare Formen |
Hoher reiner Splitter | AG | 4N-5N | 961 | 10,49 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes Reinaluminium | Al | 4N-6N | 660 | 2,7 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Gold | Au | 4N-5N | 1062 | 19,32 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Wismut | Bi | 5N-6N | 271,4 | 9,79 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Kadmium | CD | 5N-7N | 321,1 | 8,65 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Kobalt | Co | 4N | 1495 | 8,9 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Chrom | Cr | 3N-4N | 1890 | 7,2 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Kupfer | Cu | 3N-6N | 1083 | 8,92 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Eisen- | F.E. | 3N-4N | 1535 | 7,86 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Germanium | GE | 5N-6N | 937 | 5,35 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Indium | In | 5N-6N | 157 | 7,3 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Magnesium | Magnesium | 4N | 651 | 1,74 | Draht, Partikel, Ziel |
Hohes reines Magnesium | Mangan | 3N | 1244 | 7,2 | Draht, Partikel, Ziel |
Hohes reines Molybdän | MO | 4N | 2617 | 10,22 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Niobium | Notiz: | 4N | 2468 | 8,55 | Draht, Ziel |
Hohes reines Nickel | Ni | 3N-5N | 1453 | 8,9 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohe reine Führung | Pb | 4N-6N | 328 | 11,34 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Palladium | PD | 3N-4N | 1555 | 12,02 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Platin | Pint | 3N-4N | 1774 | 21,5 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Silikon | Si | 5N-7N | 1410 | 2,42 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Zinn | Sn | 5N-6N | 232 | 7,75 | Draht, Partikel, Ziel |
Hohes reines Tantal | Ta | 4N | 2996 | 16,6 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Tellur | Te | 4N-6N | 425 | 6,25 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Titan | Ti | 4N-5N | 1675 | 4,5 | Draht, Partikel, Ziel |
Hoher reiner Wolfram | W | 3N5-4N | 3410 | 19,3 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Zink | Zn | 4N-6N | 419 | 7,14 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Zirkonium | Zr | 4N | 1477 | 6,4 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
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