
Ziel für die Sputterung von PVD-Titanlegierungen
Produktdetails:
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Herkunftsort: | China |
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Markenname: | JINXING |
Zertifizierung: | ISO 9001 |
Modellnummer: | Kupfernes Spritzenziel |
Zahlung und Versand AGB:
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Min Bestellmenge: | 1 kg |
Preis: | 15~100USD/kg |
Verpackung Informationen: | SPERRHOLZ-FALL |
Lieferzeit: | 10~25 Arbeitstage |
Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 100000kgs/M |
Detailinformationen |
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Material: | Kupfer | Prozess: | CIP, HIP Drücken |
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Größe: | Besonders angefertigt | Anwendung: | PVD-Beschichtung, |
Dichte: | 8.96g/cm3 | Form: | Runde, Platte, Rohr-Spritzenziel |
Korngröße: | Feingröße, gute Dichte | Reinheit: | 99,999%, 99,9999% |
Hervorheben: | Spritzenziel mit 99,9999% ultra,Hoher Reinheitsgrad-kupfernes Spritzenziel |
Produkt-Beschreibung
wird elektrolytisches Kupfer der Ultrahochreinheit 6N hauptsächlich in der Produktion des Spritzenziels, des Verdampfungsfilmes und der Anodenmaterialien für integrierte Schaltungen benutzt.
Reinheit: 99,999% | 99,9999%
Zur genauen Steuerung des Störstellengehalts, kann AG-Inhalt unterhalb 0.1ppm und s-Inhalts unter 0.02ppm gesteuert werden
Der Inhalt von Gaselementen (C, O, N, H) ist kleiner als 1ppm
Hauptgebrauch: Kupfer 6N hat einige Eigenschaften, die Gold, gute Leitfähigkeit, Duktilität, Korrosionsbeständigkeit und Oberflächenleistung und niedrige Erweichungstemperatur ähnlich sind. Als neue Art Material, Kupfer wird verpfändet von hohem Reinheitsgrad nicht nur in der Vorbereitung von analytischen Standardtestmaterialien von hohem Reinheitsgrad, die verschiedenen Verbindungsdrähte für elektronische Industrie benutzt und Drähte für das elektronische Verpacken, hochwertige Audiodrähte und integrierte Schaltungen und spritzt Ziele für Flüssigkristallanzeige und Ionenbeschichtung, aber auch ein unentbehrliches und kostbares Material in der Atomenergie, in der Rakete, in der Rakete, in der Luftfahrt, im Aerospace und in den Hüttenindustrien. Als neues Material ist ultra reines Kupfer mehr und mehr Aufmerksamkeit gezahlt worden. Zusätzlich zur Vorbereitung von analytischen Standardtestmaterialien von hohem Reinheitsgrad, verschiedene Verbindungsdrähte für elektronische Industrie, Verpfändungsdrähte für das elektronische Verpacken, hochwertige Audiodrähte und integrierte Schaltungen, Spritzenziele und Ionenbeschichtung für Flüssigkristallanzeige, hochwertige Audiostromkreise und andere High-Teche Felder, Kupfer wird von hohem Reinheitsgrad auch in der Atomenergie, Raketen, Raketen, Luftfahrt, Raumnavigation benutzt und andere kostbare Materialien der Felder sind in der Hüttenindustrie unentbehrlich. Mit der Entwicklung der hohen und neuen Technologie und der Bedarf von strategischen Materialien, Metalle haben von hohem Reinheitsgrad die höheren und höheren Anforderungen für Reinheit. Die Vorbereitung und die Anwendung von und Ultra-hochreinheitsmetallen von hohem Reinheitsgrad in der moderner Materialwissenschaft und -technik sind neue und wachsende Felder.
Kupfernes Spritzenziel 99,9999%, kupfernes Spritzenziel 99,999% sind in unterschiedlichen Größen verfügbar
Größen:
Plattenspritzenziele:
Stärke: 0,04 bis 1,40“ (1,0 bis 35mm).
Breite bis 20" (50 bis 500mm).
Länge: 3,9" zu 6,56 Fuß (100-2000mm)
andere Größen, wie verlangt.
Zylinderspritzenziele:
3,94 Durchmesser x 1,58“ (100 Durchmesser x 40mm)
2,56 Durchmesser x 1,58“ (65 Durchmesser x 40mm)
oder 63*32mm andere Größen, wie verlangt.
Rohrspritzenziele:
2,76 Od x 0,28 GEWICHT x 39,4" L (70 Od x 7 GEWICHT x 1000mm L)
3,46 Od x 0,39 GEWICHT x 48,4" L (88 Od x 10 GEWICHT x 1230mm L)
andere Größen, wie verlangt.
Vorteil:
1. Reinheit: 99,99% | 99,9999%
2. Mit hoher Dichte, keine Defekte nach innen, sogar Körner und glatte Oberfläche
3. Einzigartiges Schmelzen und werfender Umweltschutzprozeß
4. Es kann den Bedarf der kundengebundenen Legierung erfüllen
5. Einzigartige Homogenisationssteuerungstechnik von addierten Elementen
6. Vereinheitlichte Mikrostruktursteuerung
Produkt-Name | Element | Purirty | Schmelzpunkt ℃ | Dichte (g/cc) | Verfügbare Formen |
Hoher reiner Splitter | AG | 4N-5N | 961 | 10,49 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes Reinaluminium | Al | 4N-6N | 660 | 2,7 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Gold | Au | 4N-5N | 1062 | 19,32 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Wismut | Bi | 5N-6N | 271,4 | 9,79 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Kadmium | CD | 5N-7N | 321,1 | 8,65 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Kobalt | Co | 4N | 1495 | 8,9 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Chrom | Cr | 3N-4N | 1890 | 7,2 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Kupfer | Cu | 3N-6N | 1083 | 8,92 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Eisen- | F.E. | 3N-4N | 1535 | 7,86 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Germanium | GE | 5N-6N | 937 | 5,35 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Indium | In | 5N-6N | 157 | 7,3 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Magnesium | Magnesium | 4N | 651 | 1,74 | Draht, Partikel, Ziel |
Hohes reines Magnesium | Mangan | 3N | 1244 | 7,2 | Draht, Partikel, Ziel |
Hohes reines Molybdän | MO | 4N | 2617 | 10,22 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Niobium | Notiz: | 4N | 2468 | 8,55 | Draht, Ziel |
Hohes reines Nickel | Ni | 3N-5N | 1453 | 8,9 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohe reine Führung | Pb | 4N-6N | 328 | 11,34 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Palladium | PD | 3N-4N | 1555 | 12,02 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Platin | Pint | 3N-4N | 1774 | 21,5 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Silikon | Si | 5N-7N | 1410 | 2,42 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Zinn | Sn | 5N-6N | 232 | 7,75 | Draht, Partikel, Ziel |
Hohes reines Tantal | Ta | 4N | 2996 | 16,6 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Tellur | Te | 4N-6N | 425 | 6,25 | Partikel, Ziel |
Hohes reines Titan | Ti | 4N-5N | 1675 | 4,5 | Draht, Partikel, Ziel |
Hoher reiner Wolfram | W | 3N5-4N | 3410 | 19,3 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Zink | Zn | 4N-6N | 419 | 7,14 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
Hohes reines Zirkonium | Zr | 4N | 1477 | 6,4 | Draht, Blatt, Partikel, Ziel |
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