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Startseite ProdukteSpritzenzieleHoher Reinheitsgrad-Titan-Aluminiumspritzenziele TiAl7030
High Purity Titanium Aluminum Sputtering Targets TiAl7030
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Hoher Reinheitsgrad-Titan-Aluminiumspritzenziele TiAl7030

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: JX
Zertifizierung: ISO
Modellnummer: Hoher Reinheitsgrad-Titan-Aluminiumspritzenziel TiAl7030
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 10kgs
Preis: USD50-100
Verpackung Informationen: STANDARDverpackung
Lieferzeit: 15days
Zahlungsbedingungen: L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 2ton、
Kontakt

Detailinformationen
Reinheit: Hoher Reinheitsgrad-Titan-Aluminiumspritzenziel TiAl7030 Form: Rod
Prozess: Hüfte GRÖSSE: 20-250
Techniken: Staubsaugen Sie das Schmelzen
Hervorheben:

Titanaluminiumspritzenziele

,

Hoher Reinheitsgrad-Spritzenziele

,

Ziele Spritzenstial7030

Produkt-Beschreibung

hoher Reinheitsgrad Titan-Aluminiumspritzenziel TiAl7030
Um Sie besser zu dienen, möchten wir Ihre spezifische Anforderung besprechen, in Verbindung treten mit uns bitte für ein Zitat.

Titanaluminiumspritzenziel-Eigenschaften

Titanaluminiumlegierungsspritzenziel kann durch zwei Möglichkeiten, HIP und Schmelzen gemacht werden.
Das Ziel durch HIP ist mitern hoher Dichte. Das Ziel, indem es schmilzt, ist höherer Reinheitsgrad. Alles basiert auf Ihrer Anwendung.

Reinheit: Al-Ti 35/65 at% Al/Ti 50/50 at%, 99,95%, 99,5%
Form: Disketten, Platte, Rechteck des Schritt-(Durchmesser 300mm, Stärke 1mm), Blatt, Rohr des Schritt-(Länge 1000mm, Breite 300mm, Stärke 1mm) (Diameter2mm< 300mm="">)
Anwendung: Primär verwendet in den beschichtenden Werkzeugen, Nicht-Korrosion Ventil/Chemiefabriken, Marine Industry.

 

Titanaluminiumspritzenziel-Beschreibung

Reinheit Al-Ti (35/65at%), Al/Ti (50:50 at%), AlTi 97/3wt%, AiTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt%
Form Disketten, Platte, Schritt (Durchmesser ≤300mm, Stärke ≥1mm)
Rechteck, Blatt, Schritt (Länge ≤1000mm, Breite ≤300mm, Stärke ≥1mm)
Rohr (Diameter2mm< 300mm="">
Bescheinigung ISO-9001:2008
Spezifikation Besonders angefertigt als Antrag
Prozess Geschmiedet, Rollen, reibend
Anwendung

1. Galvanisierung;

2. Industriechemie u. petrochemische Technologie;

3. Medizinisch
Dichte-/Ursprungsland Provinz 4.51g/cm3 /Henan

 Titanaluminiumbild des spritzenziel-TiAl7030:

Hoher Reinheitsgrad-Titan-Aluminiumspritzenziele TiAl7030 0Hoher Reinheitsgrad-Titan-Aluminiumspritzenziele TiAl7030 1

Hohes reines Metallspritzenziel
Aluminium Al Kugel, Runde, planares, drehbares Ziel 3N~6N
Chronium Cr 2N~3N5
Platin Pint 4N~5N
Nickel Ni 4N~5N
Kobalt Co 3N~4N
Zirkonium Zr 2N2~4N
Titan Ti 4N~5N
Kupfer Cu 4N~5N
Molybdän MO 3N~4N
Niobium Notiz: 3N5
Tatalum Ta 4N5
Wolfram W 3N5
Hafnium HF 3N
Vanadium V 2N5~3N

 

Heiße Umbauten: tial Titan-aluniumziel der tial Runde benutzt in den Funktionsfilmen, China, Hersteller, Lieferanten, Fabrik, Firma, Großhandel, Produkte

 

 

 

Titanti Ziel der aluminiumlegierung target/Ti-Al: Al33:67%
Ti Al F.E. Si Magnesium Cl C Mangan O N
46,30 53,20 0,075 0,066 0,030 0,013 0,016 0,008 0,095 0,003

 

Größe und Tag:

Wolframspritzenziel

Metallspritzenziele

Titan spritzen Ziel

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