
Hochreine Molybdänscheiben Mo-Ziele
Produktdetails:
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Herkunftsort: | CHINA |
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Markenname: | JINXING |
Zertifizierung: | ISO 9001 |
Modellnummer: | Moly-Einpflanzung Ion Parts |
Zahlung und Versand AGB:
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Min Bestellmenge: | 15 KILOGRAMM |
Preis: | verhandelbar |
Verpackung Informationen: | Sperrholzkisten |
Lieferzeit: | 15-20 Tage |
Zahlungsbedingungen: | L/C, T/T, D/P, Western Union |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 2000 Kilogramm pro Monat |
Detailinformationen |
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Produktname: | Moly-Einpflanzung Ion Parts | Grad: | Mo1 |
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Dichte: | 10,2 G/cm3 | Reinheit: | >=99.95% |
Dehnfestigkeit: | >MPa 325 | Verlängerung: | <21> |
Standard: | ASTM B387-2010 | Anwendung: | Halbleiterindustrie |
Hervorheben: | Hohe reine Molybdän-Produkte,Halbleiter-Molybdän-Produkte,Molybdän-Einpflanzung Ion Parts |
Produkt-Beschreibung
Moly-Einpflanzung Ion Parts sind eine Ionenstrahlntechnologie, die die Atome der Elemente in Ionen ionisiert, beschleunigt sie an einer Spannung von zehn zu den Hunderten von KV und einpflanzt sie dann in das Werkstückmaterial, das in die Vakuumzielkammer gelegt wird, nachdem sie hohe Geschwindigkeit erhalten hat. Oberfläche.
Nach Ionenimplantation ändern die Systemtest-, chemischen und mechanischeneigenschaften der Materialoberfläche erheblich. Die ununterbrochene Verschleißfestigkeit der Metalloberfläche kann 2 bis 3 Größenordnungen der Anfangseinspritzungstiefe erreichen.
SPEZIFIKATION U. CHEMISCHE ZUSAMMENSETZUNGEN (NOMINALS)
Material | Art | Chemische Zusammensetzung (nach Gew.) |
Reines Moly | Mo1 | >99.95%min. MO |
Legierung Ti-Zr-MO | TZM | Zr 0,5% Ti-/0,08%/0,01 - 0,04% C |
MO-HF-c | MHC | 1,2% HF/0,05 - 0,12% C |
Moly-Rhenium | Mehr | 5,0% Re |
Moly-Wolfram | MoW20 | 20,0% W |
Moly-Wolfram | MoW505 | 0,0% W |
Moly Ion Implantation Parts Picture:
(1) ist es eine reine unverschmutzte Oberflächenbehandlungstechnologie;
(2) benötigt es nicht thermische Aktivierungs- und Temperaturumwelt, also ändert es nicht die Gesamtausmasse und das Oberflächenende des Werkstückes;
(3) ist Ionenimplantationsschicht eine neue Deckschicht, die durch eine Reihe körperliche und chemische Interaktionen zwischen Ionenstrahl und Substratoberfläche gebildet wird, und es gibt kein Schalenproblem zwischen ihm und Substrat;
(4) dort ist kein Bedarf an der maschinellen Bearbeitung und an der Wärmebehandlung nach Ionenimplantation.
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